فناوری سیلیس دود

​عملکرد بالا

فناوری سیلیس دود

فرآیند تولید کاملا بسته؛

سیستم کنترل احتراق خودکار؛

نسبت اختلاط مواد خام تک یا چندگانه؛

برندهای متنوع محصول و ظرفیت تولید تک خطی بالا؛ آزمایشگاه تحقیق و توسعه کاربردی.

فناوری این پروژه بر اساس جذب تجربیات فناوری پیشرفته خارجی بهینه سازی و نوآوری شده است تا سرمایه گذاری دستگاه کمتر باشد.

در مقایسه با فناوری فرآیند باز داخلی، مزایا بسیار زیاد است و می تواند به طور کامل به سطح فنی شرکت های دارای سرمایه خارجی برسد:

A、ظرفیت تولید سالانه بالای یک خط: ;;::5000 تن

(تتراکلرید سیلیکون به عنوان ماده خام)؛

B、انواع مواد خام واکنش، STC، TCS، MTS را می توان به هر نسبتی برای تولید سیلیس دود مخلوط کرد.

C、تولید فرآیند بسته: از مواد خام تا محصولات سیستم کاملاً بسته، ناخالصی های محصول بسیار کم است.

D、کنترل خودکار تجهیزات تولید، ایمن و انتقال­عملیات nent;

E、هزینه عملیات و تعمیر و نگهداری کم است و تعمیر و نگهداری­nance یک بار در سال برنامه ریزی می شود.

F、نام تجاری محصول کامل است، از محصولات ارزان قیمت تا محصولات پیشرفته برای رفع نیازهای زمینه های مختلف،

G、حفاظت از محیط زیست و ایمنی: درمان بی ضرر از سه زباله، محیط کار تمیز و ایمن.

مواد اولیه و معادله واکنش

مواد اولیه اولیه برای تولید سیلیس دوددار کلروسیلان ها، هیدروژن و هوا هستند. انواع اصلی کلروسیلان های مورد استفاده در این فرآیند شامل تتراکلرید سیلیکون (SiCl) می باشد.₄تری کلروسیلان (SiHCl₃متیل تری کلروسیلان (CH₃SiCl₃و دی کلرومتیل سیلان (CH₃HSiCl₂).

تتراکلرید سیلیکون (SiCl₄) : SiCl4​+2H2​+O2​→SiO2​+4HCl

تری کلروسیلان (SiHCl₃) : SiHCl3​+1.5H2​+O2​→SiO2​+3HCl

متیل تری کلروسیلان (CH₃SiCl₃) : CH3​SiCl3​+2H2​+3O2​→SiO2​+3HCl+2H2​O+CO2​

دی کلرومتیل سیلان (CH₃HSiCl₂) : CH3​HSiCl2​+H2​+3O2​→SiO2​+2HCl+2H2​O+CO2

خلاصه ای از فرآیند واکنش:

در همه موارد، کلروسیلان (SiCl₄SiHCl₃، CH₃SiCl₃، یا CH₃HSiCl₂) در حضور هیدروژن و اکسیژن در دمای بالا (1500) تحت هیدرولیز قرار می گیرد.°C تا 2000°ج). این واکنش ها ذرات ریز سیلیس تولید می کنند (SiO₂هیدروژن کلرید (HCl) و سایر محصولات جانبی مانند آب (H₂O) و دی اکسید کربن (CO₂) بسته به نوع کلروسیلان مورد استفاده. این واکنش ها در یک محیط شعله انجام می شود در همه موارد، کلروسیلان (SiCl)₄SiHCl₃، CH₃SiCl₃، یا CH₃HSiCl₂) در حضور هیدروژن و اکسیژن در دمای بالا (1500 درجه سانتیگراد تا 2000 درجه سانتیگراد) تحت هیدرولیز قرار می گیرد. این واکنش ها ذرات ریز سیلیس تولید می کنند (SiO₂هیدروژن کلرید (HCl) و سایر محصولات جانبی باعث تشکیل سیلیس دود شده می شود که سپس برای استفاده در کاربردهای مختلف صنعتی جمع آوری و پردازش می شود.